کتاب نهشت لایه‌اتمی برای نیمه‌رساناها (عنوان کتاب به فارسی) Atomic Layer Deposition for Semiconductors (عنوان اصلی کتاب به انگلیسی) نوشته چل سئونگ هوانگ (نویسنده به فارسی) در سال 2014 میلادی منتشر شده است. این کتاب به بررسی فناوری نهشت لایه‌اتمی و کاربرد آن در ساخت نیمه‌رساناها می‌پردازد. مطالب شامل مبانی فیزیکی و شیمیایی، واکنش‌ها و پیش‌ماده‌ها، طراحی سیستم‌های نهشت و کاربردهای آن در ساخت ترانزیستورها و حافظه‌ها می‌باشد. کتاب برای محققان و دانشجویان مهندسی مواد و الکترونیک مفید است.